外观件硬质氧化品质

硬质阳极氧化过程的机理与前述的普通阳极氧化成膜机理一样，都是膜的电化学生成与化学溶解两个过程相互转变的结果。但是，为了得到硬度高、膜层厚的氧化膜，在阳极氧化过程中，必须降低槽液温度，以便降低氧化膜的溶解速度。由于硬质氧化膜厚、致密，具有较高的电阻，影响阳极氧化过程的进行。为了使氧化正常进行，并达到要求的厚度，势必要提高槽电压来克服电阻的影响，使阳极电流保持一定。由于电压升高，电流过大，会产生大量的热，造成零件附近溶液的温度升高，加速氧化膜的溶解。为了消除这一影响，需要采用制冷设备进行人工强制降温，并用净化的压缩空气强烈搅拌，带走零件周围的热量。硬度氧化膜的硬度极高。外观件硬质氧化品质

注意铝硬质氧化一定不要先放硫酸再放水，因为浓硫酸与水会产生高热，这样水会炸沸的很危险。其试验数据的分散性比较大,又缺少国内其他单位数据的比较佐证,因此还需要进一步完善设备,争取更多的单位参加试验工作,才可能做出正确的判断。溶液的量已能淹没过零件为准。铝硬质氧化硬铝周围膜白、厚、硬度小，电流密度太低，电压升高得慢，虽发热量减少，但我们硬质氧化的膜层受到硫酸的化学溶解时间较长，所以硬度较低。 铝硬质氧化和普通阳极氧化技术非常重要，概括了硬质膜的特点、应该范围、以及硬质膜的生长条件，对硬质膜与普通阳极氧化膜进行比较，并对几种常见的硬质阳极氧化工艺进行介绍。铝硬质氧化阳极氧化膜厚不足，解决的办法是检查阳极氧化工艺是否规范，看温度，电压，导电等因素是否稳定，若有异常，请相应调整规范之，若无异常，可适当延长氧化时间，保证膜厚达标。外观件硬质氧化品质硬质氧化膜的形式是有一半的膜在铝的内部一半长出来。

硬质阳极氧化是一种厚膜阳极氧化法，这是一种铝和铝合金特殊的阳极氧化表面处理工艺。此种工艺，所制得的阳极氧化膜较大厚度可达250微米左右，在纯铝上能获得1500kg/mm2的显微硬度氧化膜，而在铝合金上则可获得400～600kg/mm2的显微硬度氧化膜。其硬度值，氧化膜内层大于外层，即阻挡层大于带有孔隙的氧化膜层，因氧化膜内有松孔，可吸附各种润滑剂，增加了减摩能力，氧化膜层导热性很差，其熔点为2050℃，电阻系数较大，经封闭处理（浸绝缘物或石蜡）击穿电压可达2000V，在大气中较高的抗蚀能力，具有很高的耐磨性，也是一种理想的隔热膜层，也有良好的绝缘性，并具有与基体金属结合得很牢固等一系列优点，因此在**工业和机械零件制造工业上获得及其普遍的应用。主要应用于要求高耐磨、耐热、绝缘性能好等的铝和铝合金零件上。如各种作为圆筒的内壁，活塞、汽塞、汽缸、轴承、飞机货舱的地板、滚棒和导轨、水利设备、蒸汽叶轮、适平机、齿轮和缓冲垫等零件。

在进行硫酸硬质阳极氧化时应注意以下几点。①氧化之前，启动冷却装置将电解液冷却至工艺规定范围，开启抽气系统和打气装置。②将氧化工件装夹牢固，使其在加工过程中不得有松动脱落现象发生。工件装夹应合理，以保证氧化电流分布均匀。工件间应有一定间距，以利于热量传递。各挂具和阳极导电杠确保导电良好。工件和阴极应有一定距离，切不可有短接现象发生。③采用恒电流法。氧化开始时电流密度一般为0.3～0. 5A/dm²，在25min内，分5～10次逐渐升高至2.5 A/dm²（或工艺规定的电流密度），保持电流密度恒定，每隔5min观察并调整一次电流密度直到氧化结束。开始时氧化电压一般取6～9V，电压视氧化膜厚度而定。④在氧化过程中应随时观察电压与电流变化情况。如发现电压突降，说明有部分工件氧化膜被溶解击穿，应立即断电，取出氧化膜已被溶解击穿的工件，其余工件再继续氧化。硬质阳极氧化是-种厚膜阳极氧化法。

硬质氧化处理的注意事项：1.制品上所有棱角应倒成直径不小于0.5mm的圆弧,不允许有锐角及毛刺以避免电流集中造成局部过热、变脆、断裂。2.制品经硬质氧化后,尺寸增加约为膜厚的一半(单边)所以对尺寸要求严格的制品,应根据膜厚确定其阳极氧化前的尺寸余量。3.氧化膜与基体结合牢固，但膜层有脆性，并随厚度增加和增大，所以不宜用于承受冲击，弯曲或变形的零件。达到一定厚度的硬质膜会使铝合金的疲劳强度有较大的降低，进行硬质氧化应慎重。在某些特殊工艺条件下，要求生产厚度为125um以上的硬质阳极氧化膜。外观件硬质氧化品质

硬质氧化表面较粗糙。外观件硬质氧化品质

硬质阳极氧化和普通阳极氧化的区别：硬质氧化的氧化膜有50%渗透在铝合金内部，50%附着在铝合金表面，因此硬质氧化后产品外部尺寸变大，内孔变小。 一、操作条件方面的差异： 1、温度不同：普通氧化18-22℃左右，有添加剂的可以到30℃，温度过高易出现粉末或裂纹；硬质氧化一般在5℃以下，相对来说温度越低硬质越高。 2、浓度差异：普通氧化一般20%左右；硬质氧化一般在15%或更低。 3、电流/电压差异：普通氧化电流密度一般：1-1.5A/dm2；而硬质氧化：1.5-5A/dm2；普通氧化电压≤18V，硬质氧化有时高达120V。 二、膜层性能方面的差异： 1、膜层厚度：普通氧化膜层厚度相对较薄；硬质氧化一般膜层厚度>15μm，过低达不到硬度≥300HV的要求。 2、表面状态：普通氧化表面较光滑，而硬质氧化表面较粗糙（微观，和基体表面粗糙度有关）。 3、孔隙率不同：普通氧化孔隙率高；而硬质氧化孔隙率低。 4、普通氧化基本是透明膜；硬质氧化由于膜厚，为不透明膜。 5、适用场合不同：普通氧化适用于装饰为主；而硬质氧化以功能为主，一般用于耐磨、耐电的场合。外观件硬质氧化品质

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