广东无水氢氟酸生产厂

时间:2024年05月07日 来源:

电子级氢氟酸生产工艺:将无水氢氟酸(国家标准)经 化学预处理 后,进入精馏塔通过 精馏 操作,得到的氟化氢气体经 冷却 后,在吸收塔中用 超纯水吸收 ,并采用控制喷淋密度、气液比等方法使电子级氢氟酸进一步 纯化 ,随后经0.2μm以下 超滤 工序,之后在 密闭洁净环境条件下(百级以下) 进行灌装 得到之后产品———电子级氢氟酸。目前国内外制备电子级氢氟酸的常用提纯技术有精馏、蒸馏、亚沸蒸馏、减压蒸馏、气体吸收等技术,这些提纯技术各有特性,各有所长。如亚沸蒸馏技术只能用于制备量少的产品,气体吸收技术可以用于大规模的生产。氢氟酸不应该与硝酸、过氧化氢等化学物质混合。广东无水氢氟酸生产厂

广东无水氢氟酸生产厂,氢氟酸

氟化氢是一种无机酸,化学式为HF,熔点-83.37℃、沸点19.51℃,气体密度0.922 kg/m3(标态下),相对分子量20.008。在常态下是一种无色、有刺激性气味的有毒气体,具有非常强的吸湿性,接触空气即产生白色烟雾,易溶于水,可与水无限互溶形成氢氟酸。氟化氢是无色有刺激性气味的气体,氟化氢及其水溶液均有毒性,容易使骨骼、牙齿畸形,氢氟酸可以透过皮肤被黏膜、呼吸道及肠胃道吸收,中毒后应立即应急处理,并送至就医。是一种极强的腐蚀剂,有剧毒。它是无色的气体,在空气中,只要超过3ppm就会产生刺激的味道。氢氟酸是氟化氢的水溶液,可以透过皮肤黏膜、呼吸道及肠胃道吸收。若不慎暴露于氢氟酸,应立即用大量清水冲洗20至30分钟,然后以葡萄酸钙软膏或药水涂抹;若不小心误饮,则要立即喝下大量的高钙牛奶,然后紧急送医处理。河南55%氢氟酸哪里买氢氟酸可以与杂质金属反应,形成难溶的金属氟化物,从而实现金属的分离和纯化。

广东无水氢氟酸生产厂,氢氟酸

氢氟酸是氟化氢气体的水溶液,为无色透明至淡颜色发烟液体。有泛酸性气味。分子式 HF-H2O。相对密度 1.15~1.18。沸点 112.2℃。氢氟酸是一种剧毒和强腐蚀性的物质。其本身易挥发并且能与水完全互溶而引起强烈腐蚀。氢氟酸对金属材料的腐蚀现象主要有:(一)均匀腐蚀:氢氟酸对金属材料的腐蚀是电化学腐蚀。其腐蚀是按电化学过程进行,即阳极产生金属溶解(均匀腐蚀),阴极析出氢。(二)氢鼓泡和氢脆。氢氟酸介质与碳钢接触生成氟化铁和氢原子: Fe+2HF→FeF2+H2  氟化铁是一种致密的锈蚀物,附在金属表面形成一种保护膜,使氟化氢的扩散速度降低。对设备起到保护作用。但当介质温度超过65℃时,该层锈蚀物的保护膜就将剥落,使金属继续被腐蚀。腐蚀反应产生的氢原子对钢材有很强的渗透能力。这种渗透能力与温度有关,温度越高,渗透越强。

目前工业级氢氟酸较主要的下游应用是氟烷烃,主要对应制冷剂,下游对应冰箱、空调、冰柜、汽车等,近年来下游需求较为平稳。目前主流的晶体六氟磷酸锂合成方式利用工业级无水氟化氢&五氯化磷&氟化锂为关键原材料,单吨消耗无水氟化氢约在1.1-1.4吨,加上PVDF、FEC等产品,预计单GWh氢氟酸需求在200吨左右,2030年氢氟酸需求100万吨以上。用于制造氟化钠、氟化铝、六氟的化铀、氟碳化合物、冰晶石等无机及有机氟化物。有机合成工业中用作聚合、缩合及烷基化的促进剂。石油化工中用作催化剂。也用于玻璃仪表、器皿及镜子的刻花、刻字,非铁金属及不锈钢酸洗,金属铸件除砂,磨砂灯泡处理。还用来制造杀虫剂、杀细菌剂、阻燃剂,以及电镀、陶瓷处理等。在进行氢氟酸处理时必须避免产生噪声和室内温度过高。

广东无水氢氟酸生产厂,氢氟酸

各国基本都是采用氯化钾消除氟硅酸盐的干扰,用氢氧化钠标准滴定溶液,以酚酞的指标剂进行滴定。我国标准中的测定方法是将产品的总酸度测出后,再分别测出氟硅酸、硫酸含量。用总酸度数值分别减去氟硅酸含量、硫酸含量,之后结果以氟化氢表示。日本标准中的计算方法与我国标准有所不同但两个标准之后测定结果是一致的。另外从相关资料了解到,在测定氢氟酸含量过程中,我国和日本的测定标准中都加入冰块降温,两者目的都是使产品中的氟硅酸与钾盐反应物的溶解程度降到较低,确保在滴定过程氟硅酸钾不溶解。但我国采用的是在制样过程中加入冰块的方法,而日本标准中是在加入硝酸钾溶液后再加入冰块。我国标准中在制备试验溶液时加入冰块,除了保证氟硅酸钾不溶解,同时还能避免在称样过程中样品的挥发。在使用氢氟酸的过程中,必须做好相应的防护和风险评估工作。北京55%氢氟酸订购

氢氟酸使用时必须使用标准化的化学测量工具和方法。广东无水氢氟酸生产厂

电子级氢氟酸的生产壁垒在于对金属离子含量的高标准。半导体中的金属离 子杂质会影响半导体中少子的寿命、表面的导电性、门氧化物的完整性和稳定性 等参数,且金属离子杂质在高温下或电场下会向半导体本体扩散或在表面扩大分 布,导致半导体性能下降,因此氢氟酸对其中的金属离子含量有比较严格的要求, 且适用的晶圆半径越大,制程越好,对金属离子含量的要求越高。半导体用的氢 氟酸所有单项金属杂质的质量分数≤0.1μg/L,对应 SEMI 为 G4 以上等级的氢氟 酸,对应国内行业标准则是 UP-SS 及以上等级的氢氟酸。对于现在国际上主流的 12 寸晶圆,其制造过程中需要金属离子含量低于 0.0001μg/L,对应 SEMI G5 或者 UP-SSS 标准。广东无水氢氟酸生产厂

信息来源于互联网 本站不为信息真实性负责